首页 > 正文
180nm成套硅光工艺PDK在渝发布 可提供硅光芯片流片服务和EPDA设计服务

会议现场。新华网发(活动主办方供图)

  新华网重庆5月31日电 (郭雨嫣)5月28日-30日,第二届中欧国际硅光技术研讨会在重庆举行。期间,位于重庆高新区西永微电园的联合微电子中心有限责任公司(CUMEC公司)正式发布“180nm成套硅光工艺PDK”,这是我国首个自主开发的180nm成套硅光工艺,将面向全球提供硅光芯片流片服务和EPDA设计服务。

  硅基光电子是研究和开发以光子和电子为信息载体的硅基大规模集成技术,能够提高集成芯片的性能,是大数据、人工智能、未来移动通信等新兴产业的基础性支撑技术。

  2018年10月,CUMEC公司在重庆高新区西永微电园成立,2019年9月实现8英寸硅基光电子技术工艺平台的通线,今年5月底正式发布“180nm成套硅光工艺PDK”。

  CUMEC公司执行董事兼总经理韩建忠博士在致辞中表示,“180nm成套硅光工艺PDK”的发布标志着该公司具备硅基光电子领域全流程自主工艺制造能力。未来CUMEC公司将始终坚持开放合作的发展理念,稳步实现国际一流的高端特色工艺平台建设目标,与同行专家学者海内外朋友一道,共同为硅基光电子技术与产业应用的发展贡献智慧和力量。

  研讨会上,来自全球的专家学者通过现场与线上相结合的形式分享交流硅基光电子的技术优势和应用前景,并对硅光技术研发面临的机遇、挑战及发展方向进行全方位的讨论和展望。

  比利时皇家科学院院士、根特大学Roel Baets 教授表示,硅基光电子技术发展今天已经相当成熟,基于硅光技术的光模块出货量已经达到数百万个。硅光发展也面临一些挑战,第一个难关即PDK(制程设计工具)。相比集成电路工业无比成熟的PDK,硅基光电子领域的PDK还在发展的早期,联合微电子中心发布的PDK是硅光领域的一大进步。

  重庆高新区管委会副主任林金朝表示,近年来,重庆高新区依托光电子和微电子器件及系统,国家创新基地在硅基光电子领域率先布局,设立了联合微电子中心,在科研基地、研发平台、人才团队、全流程封装工艺等方面加大投入,初步具备了人才聚集能力、重大创新任务承接能力、公共创新平台支撑能力和对外流片加工工艺能力,有助于完善重庆市集成电路产业链条,优化集成电路产业体系。

编辑: 葛琦
图片中心
栏目精选
每日看点
重庆正事儿
本网原创
010070150010000000000000011100001126056549